显示器实务专题报告内容摘要：
結構 TFTLCD 前段製程 Array • 前段的 Array 製程與半導體製程相似，但不同的是將薄膜電晶體製作於玻璃上，而非矽晶圓上。 • 1. TFT 薄膜電晶體 ：當然還是曝光顯影蝕刻，以五道光罩為主流，其中包含 a. Gate Metal : Scan 線 , b. aSi island : 半導體層 , c. Source : Data 線 , d. passivasion : 絕緣層 , e. ITO : 導電玻璃 共五道主要製程。 • 2. CF 彩色濾光片 ：主要的製程有 BM(黑色矩陣 ), R/G/B(紅綠藍彩色光阻 ), ITO(導電玻璃 ), Photo Spacer(CF與 TFT的墊高物，以維持 cell Gap). TFTLCD 中段製程 Cell •中段的 Cell ，是以前段 TFT Array的玻璃為基板，與彩色濾光片的玻。阅读剩余 0%
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