微影成像制造工程内容摘要：
resist） 行成圖形種類有兩種，正光阻可得到和光罩相同的圖形；負光阻可得到互補的圖形。 熱氣體吹拂 加熱板傳導加熱 曝光 利用光能、透過光罩，讓光阻感光，形成圖形的製程。 以下為裝置示意圖 曝光時有兩種機台 步進機 掃描機 對準 在規格內稱對準 在規格外稱對準不良 為消除曝光可能遇到的駐波效應，使得曝光後的光阻與未曝光的光阻在浸泡顯影液時能夠有更高的蝕刻比。 將光阻曝光後形成的酸性物質去除，留下圖形所需要的光阻。 硬烘烤 即為光阻顯影後，進行的烘烤製成，烘烤過後光阻較硬，故稱硬烘烤。 低溫烘烤，有曝光缺陷存在 正確溫度烘烤 圖形正常 烘烤溫度過高 圖形變形 重工。阅读剩余 0%
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