品翔电通spc控制图工具原理及原则培训教材(编辑修改稿)

品翔电通spc控制图工具原理及原则培训教材(编辑修改稿)内容摘要：

布是隨時間而變的。 PIN SHINE 12 SPC控制圖的 3σ原理 PIN SHINE 界限 μ177。 κσ 界限內的概率 界限外的概率 μ177。 ％ ％ μ177。 1σ ％ ％ μ177。 ％ ％ μ177。 2σ ％ ％ μ177。 ％ ％ μ177。 3σ ％ ％ μ177。 4σ ％ ％ 當過程僅含正常變異時，過程輸出的質量特性 X呈正態分布 N（ μ， σ)，其中 μ為正態均值， σ為標準差。 2 表一： 正態分布 N （ μ ， σ) 的概率特性 2 1 •… 3 σ原理簡介 13 PIN SHINE 表二： 正態分布 N （ μ ， σ) 的概率特性 2 ％ ％ σ +σ +2σ +3σ σ 2σ 3σ μ 休哈特建議： 用界限 μ177。 3σ作為控制界限來管理過程。 這意味者：在 1000個產品中若有不超過 ，就認為該過程的變異屬正常變異；若有更多個不合格品出現，就認為該過程的變異屬異常變異。 14 PIN SHINE 90176。 UCL LCL CL 休哈特建議： 把正態分布圖及其控制限 μ177。 3σ同時轉 90176。 並以橫為時間或編號，以縱為過程參數（均值 \標準差），並在處引出兩條水平線（用虛線表示），這樣就形成一張 SPC控制圖。 μ+3σ μ3σ μ3σ μ+3σ μ μ 15 •… 中心極限定律 2 設 X X ···Xn為某總體抽取的樣本，其總體分布未知，但其均值 μ 和方差 σ都存在，則有如下結論： 定理： 當總體為正態分布時，樣本均值 X精確服從正態分布 N，當總體為非正態分布時，樣本均值 X近似服從正態分布 N，且樣本量 n愈大， 近似程度愈好。 PIN SHINE 這個定理表明：無論總體是什麼分布（離散分布或連續分布，正態分布或非正態分布）， X總是呈現正態分布或近似呈現正態分布。 這說明平均值運算可從非正態分布獲得正態分布。 16 例： 我們選了三個不同的總體分布（圖）： Ⅰ 均勻分布（無峰）、 Ⅱ 雙峰分布、 Ⅲ 指數分布（高度偏斜）。 n=2時 x=(x1+X2)/2的分布已改變形狀，矩形改為三角形，雙峰改為有一個主峰，高度偏斜減少了偏斜程度 1 n=5時 x=(X1+X2+···X5)/5的分布已初顯正態分布形狀，看不出它的原始分布是什麼。 2 n=30時 x=(X1+X2+···X30)/30的分布與正態分布已無什麼差別。 3 1 1 2 3 17 SPC過程控制的四種狀態 PIN SHINE SPC過程控制的四種狀態是 SPC分析的基礎。 主要分為統計狀態和技術狀態兩種形態，它們組合起來有四種狀態，如表： 統計狀態 技術狀態 四種組合 技術滿足 (In Spec) （符合規格） 技術不滿足 (Out Spec) （不符合規格） 過程受控 (IN Control) （穩定） Ⅰ Ⅱ 過程不受控 (Out Control) （不穩定） Ⅲ Ⅳ 18 PIN SHINE 統計狀態的形態 統計狀態的形態 過程受控 過程不受控 只有共同原因引起的變異，不存在特殊原因的影響，過程處於受控狀態 （即過程處於穩定狀態） 過程存在特殊原因的影響，過程波動較大，過程不受控制（即過程處於不穩定狀態） 過程受控 （穩定） t1 t2 t3 LCL CL UCL 過程不受控 （不穩定） t1 t2 t3 LCL CL UCL 19 PIN SHINE 技術狀態的形態 技術狀態的形態 技術滿足規格要求 技術不滿足規格要求 過程符合規定要求 超出技術規格要求 技術滿足 （符合規格） LSL T USL 技術不滿足 （超規格） LSL T USL 20 PIN SHINE 四種組合的狀態 根據上面的過程狀態和技術狀態，可組成四種狀態： 狀態 Ⅰ ：過程和技術都同時滿足。