手机常用工艺简介

手机常用工艺简介内容摘要：

溅射膜和离子膜。 PVD 本身镀膜过程是高温状态下，等离子场下的辉光反应，亦是一个高净化处理过程；镀层的主要原材料是以钛金属为主，钛是金属中最与人体皮肤具亲和性能的，使得 PVD 产品本身具备纯净的环保性能。 PVD 技术处理后可达到的颜色效果有： 金色系列 ：欧洲金 (2N18 及 1N14)、日本金 (GY01)、中国金 (GY2N)等； 咖啡系列：深咖、浅咖、中咖等 黑色系列：枪色、灰色、超黑色等 时尚系列：太空色、香摈色、卡其色等 其它表面处理效果： 不锈钢装饰件的其它表面处理效果主要有拉丝、高光 (机械抛光 )、麻面 (喷砂 )、亚光等。 (二 )水晶标牌 采用滴塑工艺，颜色丰富又层次感，缺点是受阳光照射、手摸会发黄；背后的丝印效果一次只能印刷一种颜色，不良率高。 (三 )钻石、宝石类 装饰效果强，颜色丰富，同一批次的一致性差，即很难保证颜色、形状、大小等的一致，而且要考虑 到其固定方式对结构设计有挑战。 切割面的多少对宝石的亮度和对光线的折射等有很大的影响。 二、注塑件的表面处理及工艺 手机目前已成为个人的标准配备 ,其重要性已超越手表等个人随身携带的物件 ,因而产品的新技术开发及应用非常快 ,为满足求新求变的需求 ,全球厂商均全力投入开发新技术的应用。 在此专题将介绍手机塑胶壳的一些表面处理。 手机塑胶壳的表面处理主要有：电镀，喷涂，表面印刷， IMD， IML 以及机壳的 EMI 喷涂或蒸镀。 电镀 水镀 最常见的电镀方式，是一个电化学的过程，利用正负电极，加以电流在镀槽中进行，镀金，镀银 ，镀镍，镀铬，镀镉等，电镀液污染很大。 水镀还要分为电镀和化学镀两种，电镀一般作为装饰性表面， 因为有高亮度，化学镀的表面比较灰暗，一般作为防腐蚀涂层。 水镀的工艺主要由前处理和电镀两部分组成。 前处理的功能是将原本不导电的塑胶材质变成导电的塑胶材质。 水镀的前处理工艺流程： 塑胶壳→挂钓→整面脱脂 (去除表面油污 )→水洗→表面粗化→水洗→回收→水洗→中和除去及还原表面铬酸→水洗→敏化吸着 PDSV 错化物→水洗→除锡使 PD 活化→水洗→化学镍→水洗→完成 真空蒸镀 真空蒸镀法是在高真空下为金属加热，使其熔融、蒸 发，冷却后在样品表面形成金属薄膜的方法 ,镀层厚度为 填平，以获得如镜面一样的表面，无任是为了得到反射镜作用而实施真空蒸镀，还是对密接性较低的夺钢进行真空蒸镀时，都必须进行底面涂布处理。 真空蒸镀工艺：蒸镀用金属为 Al、金等 表面涂布 /硬化处理：由真空蒸镀所产生的金属薄膜相当的薄，为了利用外界的化学、物理等性能，以达到保护蒸镀膜的目的，有时需要实施表面涂布处理 (或过量涂布 )。 表面涂布就是使用人们所说透明的涂料，与底面涂布一样，采用与涂布相同的工艺进行涂布、固化。 溅镀 溅镀原理：主要利用辉光放电 (glow discharge)将氩气 (Ar)离子撞击靶材(target)表面 ,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。 溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好 ,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。 新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化 ,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加 ,提高溅镀速率。 一般金属镀膜大都采用直流溅镀 ,而不导电的陶磁材料则使用 RF交流溅镀 ,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气 (Ar)离子撞击 靶材 (target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。 涂镀 利用专门的配置的两种涂液，在金属件需要镀的部分不停 涂刷 ，在涂刷区域产生化学反应，堆积出一个涂层，手工操作，用于工件上面的 加料 ，以达到尺寸要求，常用于柴油机曲轴，连杆等的处理。 有污染。 电镀件结构设计 电镀件在设计中有很多特殊的设计要求可以提出，大致为以下几点： 1)基材最好采用 ABS 材料， ABS 电镀后覆膜的附着力较好，同时价格也较低廉。 2)塑件表面质量一 定要非常好，电镀无法掩盖注射的一些缺陷，而且通常会使得这些缺陷更明显。 电镀件做结构设计时要注意的几点： 1)表面凸起最好控制在 ~，尽量没有尖锐的边缘。 2)如果有盲孔的设计，盲孔的深度最好不超过孔径的一半，负责不要对孔的底部的色泽作要求。 3)要采用适合的壁厚防止变形，最好在 以上 4mm 以下，如果需要作的很薄的话，要在相应的位置作加强的结构来保证电镀的变形在可控的范围内。 4)在设计中要考虑到电镀工艺的需要，由于电镀的工作条件一般在 60 度到70度的温度范围下，在吊挂的条件下 ，结构。