【2017年整理】常用羟基的保护方法

【2017年整理】常用羟基的保护方法内容摘要：

1、羟基的保护保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类 (ROR) 或酯类(ROCOR)，前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。 1. 形成甲醚类 ROCH3可以用碱脱去醇 ROH 质子，再与合成子 CH3作用，如使用试剂 NaH / Me2SO4。 也可先作成银盐 RO-Ag+ 并与碘甲烷反应，如使用 Ag2O / MeI；但对三级醇不宜使用这一方法。 醇类也可与重氮甲烷 CH2N2，在 Lewis 酸（如 BF3Et2O）催化下形成甲醚.脱去甲基保护基，回复到醇类，通常使用 Lewis 酸，如 BBr3及 Me3SiI，也就是引用硬软酸碱原理（hard-soft acids and bases pri 2、nciple） ，使氧原子与硼或硅原子结合（较硬的共轭酸） ，而以溴离子或碘离子（较软的共轭碱）将甲基（较软的共轭酸）除去。 2. 形成叔丁基醚类 ROC（CH3）3醇与异丁烯在 Lewis 酸催化下制备。 叔丁基为一巨大的取代基（bulky group） ，脱去时需用酸处理3. 形成苄醚 ROCH2Ph：制备时，使醇在强碱下与苄溴 (benzyl bromide)反应，通常以加氢反应或锂金属还原，使苄基脱除，并回复到醇类。 4. 形成三苯基甲醚 (ROCPh3)制备时，以三苯基氯甲烷在吡啶中与醇类作用，而以 4-二甲胺基吡啶（4-dimethyl aminopyridine, DMAP）为催化剂。 3、5. 形成甲氧基甲醚 ROCH2OCH3制备时，使用甲氧基氯甲烷与醇类作用，并以三级胺吸收生成的 HCl。 甲氧基甲醚在碱性条件下和一般质子酸中有相当的稳定性，但此保护基团可用强酸或 Lewis 酸在激烈条件下脱去。 7. 形成四氢吡喃 ROTHP制备时，使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。 欲回收恢复到醇类时，则在酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团。 有机合成中常引用这种保护基团，其缺点是增加一个不对称碳（缩酮上的碳原子） ，使得 NMR 谱的解析较复杂。 8. 形成叔丁基二甲硅醚 ROSiMe2（t-Bu） 制备时，用叔丁基二甲基氯硅烷与醇类在三级胺中作用，此保护基比三甲基硅基稳定，常运用 4、在有机合成反应中，一般是 F-离子脱去。 9. 形成乙酸酯类 ROCOCH3脱去乙酸酯保护基可使用皂化反应水解。 乙酯可与大多数的还原剂作用，在强碱中也不稳定，因此很少用作有效的保护基团。 但此反应的产率极高，操作也很简单，常用来帮助决定醇类的结构。 10 形成苯甲酸酯类 ROCOPh制备时，用苯甲酰氯与醇类的吡啶中作用。 苯甲酸酯较乙酯稳定，脱去苯甲酸酯需要较激烈的皂代条件。 关于羟基保护的方法羟基的保护基1). 酯类保护基t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al.90%Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 5、453酯类保护基的除去(cleavage)碱性条件下水解， 水解能力：t-BuCO(Piv) PhCO MeCO ClCH2CO常用的碱：K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al去除 Piv 一般用较强的强碱体系，如 KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL, KBHEt3ClCH2CO 的去除可以用硫脲，氨/甲醇，苯，吡啶水溶液，NH2CH2CH2SH, NH2CH2CH2NH2, PhNHCH2CH2NH2 等除去。 2). 硅醚保护基硅醚保护基主要有：Me3Si (trimethylsilyl, TMS);Et3Si (triethylsilyl 6、, TES);t-BuMe2Si (tert-butyldimethylsilyl, TBDMS or TBS)i-Pr3Si (triisopropylsilyl, TIPS)t-BuPh2Si (tert-butyldiphenylsilyl, TBDPS)酸水解相对稳定性:TMS(1) TES(64) TBDMS(20,000) TIPS(700,000) TBDPS (5,000,000)碱水解相对稳定性:TMS(1) TES(50) TBDMS = TBDPS (20,000) TIPS(100,000)硅醚保护基的除去： （F-Si 142 kcal/mol; O-Si 112 kcal/mol）通常用 HF / CH3CN; TBAF / THF; HF.Py / CH3CNTES ether： TESCl/Imid. DMAP; TESOTf / Py. or 2,6-dimethylpyridine。