西瓜地膜覆盖暖坑早熟栽培技术内容摘要：
2、，地膜要平、直、紧的盖在垄上，每个播种坑就形成单个地下温室。 在阳光照射下，不仅提高地温，也明显地提高了播种小坑的温度，形成光能加热的温暖小坑。 二、品种选择采用此法可提早成熟，若再选用早熟品种，其早熟效果更好。 既可采用早熟品种，也可采用中晚熟品种，都比一般地膜覆盖成熟早。 三、适期播种通常适宜的播期是比一般地膜覆盖提早 1015 天，即在终霜前 1015 天播种为适期。 具体播种时间应结合当地气候条件而定。 四、破膜放苗待晚霜已过，气温稳定升高，要及时破膜放苗，把已有 24 片真叶的秧苗从暖坑拿出膜外，用手将地下坑稍整平，用湿土把根茎部与膜口盖严压实，让瓜苗在露天生长，根系仍在地膜保护下生长。 五、防低温冻苗早春气温低，播种后要时刻注意天气变化，预防低温冷害和冻害。 若降温，可在膜上撒一层干细土或用草盖住，等天气转暖时再将膜上的细土和或草等覆盖物除净。 六、防高温烤苗早春气温多变，既要防止冻害，也要防高温烤苗。 当外界气温达 30时，坑内温度达 40左右。 在这种高温的条件下必须放风降温，严防高温烤苗。 放风时在距坑内小苗北侧 35，把地膜扎手指粗的孔眼 23 个，促使地膜内通风换气。 放风宜早，最好在上午 910 时进行，严防中午突然放大风闪苗。 通常，在气温 25以下又是多云天气，可不放风。 其它管理同地膜覆盖栽培即可。 专利查询。阅读剩余 0%
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