西瓜栽培技术的两项改革内容摘要：
2、且圆，瓜蒂细且短，花冠小且弱，不会长成大瓜。 基于这样的发现，我们主张改短缩节留分蔓为伸长节留分蔓。 即去掉一切短缩节分蔓，使主蔓伸长，再在主蔓上留 2 个分蔓。 部位为主蔓伸长 33右，选对称 2 个节位，留 2 个分蔓。 这样的三蔓正枝才主次分明。 主蔓生长粗壮有力，将来在主蔓上留瓜。 雌花开放时，幼瓜大且长型，瓜蒂长且粗，花冠大且蕊壮，将来才能长成大瓜。 从主蔓上留的 2 副蔓，不座瓜，主要进行光合作用，制造营养，供应主蔓长大瓜。 二、改单沟施肥为双沟施肥西瓜生产中，一般施肥量都很多，除土杂肥外，还有饼肥、化肥等。 很多瓜农开一条深宽各 2030沟，把所有的肥料都集中施入沟内，然后起垄，瓜种在垄上。 有人认为，这样集中施肥瓜长的好，实则不然。 瓜种在肥沟上，由于肥多而集中，瓜苗容易过旺徒长。 有时还有烧苗现象，甚至死苗和不出苗。 座瓜时，西瓜的很多根系已经伸出肥的范围，致使养分不足而长不成大瓜。 为此，我们提出改单沟施肥为双沟施肥。 相距 2030两条深宽各 2030沟，肥分两沟施入。 起垄后，瓜种在两肥沟之间。 一般土壤的瓜苗不会弱，根系很快就能吸收肥料，又不易过旺徒长，更不易烧苗。 座瓜时，大部分根系仍在两肥沟范围内，因此瓜长的大。 专利查询。阅读剩余 0%
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