对照表

eate Mode创建方式 Create Morph Key创建变形关键帧 Create New Set创建新集合 Create Normal Projected Curve创建法线投影曲线 Create Offset Curve创建偏移曲线 Create Offset Point创建偏移点 Create Offset Surface创建偏移表面；创建偏移曲面 Create Out of

151 PZM15NB1 Phi C SOT346 15V zener 152 PZM15NB2 Phi C SOT346 15V zener 153 PZM15NB3 Phi C SOT346 15V zener 156 DTA144VUA Roh N SC70 pnp dtr 47k+10k 50V 100mA 161 PZM16NB1 Phi C SOT346 16V zener 162

o SCM440 (SCM4) 42CrMo4() 4140 4140 4140 708M40, 708A42, 709M40 42CD4 R683/Ⅱ３ SCM421 (SCM23) R683/Ⅺ 7 SCM418 4118 4118 4118 SCM445 (SCM5) 50CrMo4() 4145 4145 4145 SCM822 (SCM24) 25CrMo4() 25CD4

d to achieve conformity to HSF process and product requirements. 组织应决定、提供并维护达成 HSF 流程与产品要求所需之基础架构。 7 Product Realization 7. 产品实现 Planning of HSF process and product realization HSF 流程与产品实现之规划 The

zener 152 PZM15NB2 Phi C SOT346 15V zener 153 PZM15NB3 Phi C SOT346 15V zener 156 DTA144VUA Roh N SC70 pnp dtr 47k+10k 50V 100mA 161 PZM16NB1 Phi C SOT346 16V zener 162 PZM16NB2 Phi C SOT346 16V