memsexe
cwindowsmicrosystemscd_memsexe
貌改变 理想的情况是膜版的形状被准确的复制到样品表面、各向同性刻蚀总是会扩大形状。 化学各向异性刻蚀蚀利用晶向选择性、所以只有准确与晶向对准才能得到准确的形状、利用粒子溅射可以用等离子体状态来控制各向异性刻蚀。 但是溅射也会因实际情况存在型貌精度问题。 由于溅射率角度依存性导致斜面化 即使开始时光刻胶是垂直壁，也会有在胶边缘产生斜面的倾向。 实际上胶边缘总是会成图示圆角